MgF2 Substratı
Tanım
MgF2, 110nm'den 7,5μm'ye kadar dalga boyu için lens, prizma ve pencere olarak kullanılır.193nm'deki iyi iletimi nedeniyle ArF Excimer Lazer için pencere olarak en uygun malzemedir.Ayrıca ultraviyole bölgede optik polarizasyon olarak da etkilidir.
Özellikler
| Yoğunluk (g/cm)3） | 3.18 |
| Erime Noktası(°C) | 1255 |
| Termal iletkenlik | 300K'da 0,3 Wm-1K-1 |
| Termal Genleşme | 13,7 x 10-6 /° paralel c ekseni 8,9 x 10-6 /°C dikey c ekseni |
| Topuz Sertliği | 415, 100g girintili (kg/mm2) |
| Özgül Isı Kapasitesi | 1003 J/(kg.k) |
| Dielektrik sabiti | 1MHz paralel c ekseninde 1,87 1MHz dikey c ekseninde 1,45 |
| Young Modülü (E) | 138,5 GPa |
| Kayma Modülü (G) | 54.66 not ortalaması |
| Toplu Modül (K) | 101,32 GPa |
| Elastik Katsayısı | C11=164;C12=53;C44=33.7 C13=63;C66=96 |
| Görünür Elastik Sınır | 49,6 MPa (7200 psi) |
| Poisson oranı | 0,276 |
MgF2 Substrat Tanımı
MgF2 substratı, magnezyum florür (MgF2) kristal malzemeden yapılmış bir substratı ifade eder.MgF2, magnezyum (Mg) ve flor (F) elementlerinden oluşan inorganik bir bileşiktir.
MgF2 substratları, özellikle optik ve ince film biriktirme alanlarında, çeşitli uygulamalarda onları popüler kılan birçok önemli özelliğe sahiptir:
1. Yüksek şeffaflık: MgF2, elektromanyetik spektrumun ultraviyole (UV), görünür ve kızılötesi (IR) bölgelerinde mükemmel şeffaflığa sahiptir.Yaklaşık 115 nm'deki ultraviyoleden, yaklaşık 7.500 nm'deki kızılötesine kadar geniş bir iletim aralığına sahiptir.
2. Düşük kırılma indeksi: MgF2 nispeten düşük bir kırılma indeksine sahiptir, bu da onu AR kaplamalar ve optikler için ideal bir malzeme haline getirir çünkü istenmeyen yansımaları en aza indirir ve ışık iletimini geliştirir.
3. Düşük absorpsiyon: MgF2, ultraviyole ve görünür spektral bölgelerde düşük absorpsiyon sergiler.Bu özellik, lensler, prizmalar ve ultraviyole veya görünür ışınlar için pencereler gibi yüksek optik netlik gerektiren uygulamalarda kullanışlı olmasını sağlar.
4. Kimyasal kararlılık: MgF2 kimyasal olarak kararlıdır, çok çeşitli kimyasallara karşı dayanıklıdır ve çok çeşitli çevre koşullarında optik ve fiziksel özelliklerini korur.
5. Termal stabilite: MgF2 yüksek bir erime noktasına sahiptir ve önemli bir bozulma olmaksızın yüksek çalışma sıcaklıklarına dayanabilir.
MgF2 substratları, çeşitli cihaz ve sistemlerdeki optik kaplamalarda, ince film biriktirme işlemlerinde ve optik pencerelerde veya lenslerde yaygın olarak kullanılır.Ayrıca yarı iletken malzemeler veya metalik kaplamalar gibi diğer ince filmlerin büyümesi için tampon katmanlar veya şablonlar olarak da hizmet edebilirler.
Bu substratlar tipik olarak, MgF2 malzemesinin uygun bir substrat malzemesi üzerine biriktirildiği veya tek bir kristal olarak büyütüldüğü buhar biriktirme veya fiziksel buhar taşıma yöntemleri gibi teknikler kullanılarak üretilir.Uygulama gereksinimlerine bağlı olarak alt tabakalar levha, plaka veya özel şekillerde olabilir.
